真空蒸着法 イオンプレーティング法 スパッタリング法 による当社では真空蒸着法、イオンプレーティング法やスパッタリング法による 薄膜の試作を受託いたしております。 薄膜成長による機能性付加のニーズに合わせて当社の真空蒸着法(アルミ等多種)や 化学蒸着法(ダイヤモンド膜、アモルファスカーボン等)の気相成長で培った技術を 皆様に提供していきたいと考えております。 また真空蒸着などの気相成長法についてご質問などありましたら お気軽にお寄せ下さい。
| 【お知らせ】 開発センターは、2001年7月1日付けで、(株)トウ・プラスより分社化し トウプラスエンジニアリング(株)となりました。 |
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